Màquina de tall per ultrasons

El sistema de recobriment per ultrasons d'entrada està desenvolupat principalment per a empreses, universitats i instituts de recerca que són nous en equips de polvorització per ultrasons. Tot el dispositiu té una estructura senzilla i elegant i funcions completes.

La màquina de polvorització de precisió bàsica per ultrasons està desenvolupada principalment per empreses, universitats i instituts de recerca que estan en contacte amb equips de polvorització per ultrasons per primera vegada.

El sistema de recobriment de precisió intel·ligent per ultrasons està desenvolupat principalment per a empreses, universitats i instituts de recerca.

El sistema de recobriment de precisió intel·ligent per ultrasons està desenvolupat principalment per a empreses, universitats i instituts de recerca.

L'equip de polvorització de precisió ultrasònica d'alta temperatura adopta una plataforma de calefacció d'alta precisió, amb una precisió de control de temperatura de ± 0,1 ℃, i pot realitzar una configuració de temperatura en diverses etapes.

El sistema de recobriment per ultrasons adopta una estructura segellada, que pot realitzar un tractament al buit en la polvorització, i la pressió negativa màxima pot arribar a -0,058/-0,098 mpa, que es pot gestionar amb alguns processos de polvorització especials.

La màquina de polvorització de precisió ultrasònica tipus campana extractora és un equip especialment desenvolupat per a condicions de treball on es genera una gran quantitat de gasos d'escapament durant la polvorització.

Aquest és un sistema de recobriment ultrasònic de mida mitjana. El sistema inclou un sistema de servomoviment de tres eixos XYZ, un mecanisme opcional de rotació de la boquilla de l'eix R i un sistema complet d'edició de trajectòries per aconseguir la funció de polvorització de qualsevol gràfic pla bidimensional, com ara rectangles, cercles, triangles o corbes.

Aquest sistema de recobriment per ultrasons és principalment adequat per a la polvorització semiautomàtica i es pot utilitzar conjuntament amb línies de producció per a la producció en massa sense parar.

Aquest és un sistema de recobriment ultrasònic de mida mitjana. El sistema inclou un sistema de servomoviment de tres eixos XYZ, un mecanisme opcional de rotació de broquets de l'eix R i un sistema complet d'edició de trajectòries, equipat amb múltiples broquets ultrasònics FUNSONIC per aconseguir la funció de polvorització de qualsevol gràfic pla bidimensional.

Aquest sistema de recobriment per ultrasons és principalment adequat per a la polvorització semiautomàtica i es pot utilitzar conjuntament amb línies de producció per a la producció en massa sense parar.

Aquest és un sistema de recobriment ultrasònic de mida mitjana. El sistema inclou un sistema de servomoviment de tres eixos XYZ, un mecanisme opcional de rotació de la boquilla de l'eix R i un suport de base giratori de 360°, i un sistema complet d'edició de trajectòries per aconseguir la funció de polvorització de gràfics tridimensionals, com ara fundes de telèfon.

El sistema de recobriment de precisió per ultrasons en línia és una màquina de polvorització per ultrasons adequada per a la producció ininterrompuda de 24 hores en conjunció amb la línia de producció. La màquina de polvorització de precisió per ultrasons adopta una forma en què diversos grups de sistemes de boquilles es fixen en sèrie i la cinta transportadora del substrat es mou.

El sistema de recobriment per ultrasons està dissenyat per a tubs de recollida de sang o xeringues. Tot el sistema és completament funcional i està equipat amb la base de motlle necessària per a xeringues o tubs de recollida de sang.

Aquest és un sistema de recobriment ultrasònic especialment dissenyat per a globus que alliberen fàrmacs, que proporciona un recobriment uniforme del fàrmac per al catèter de globus mitjançant tecnologia de polvorització ultrasònica sense adherència, forats, bombolles d'aire ni altres defectes.

Aquest és un sistema de recobriment ultrasònic especialment dissenyat per a stents liberadors de fàrmacs, que proporciona un recobriment uniforme del fàrmac per al stent mitjançant tecnologia de polvorització ultrasònica sense adherència, forats, bombolles d'aire i altres defectes.

El sistema de recobriment de precisió ultrasònic industrial és adequat per a la producció ininterrompuda de 24 hores, que pot polvoritzar una gran àrea de substrat. El polvoritzador de precisió ultrasònic adopta una connexió en sèrie de múltiples sistemes de broquets.

El sistema de recobriment ultrasònic per a bateries de perovskita està desenvolupat principalment per a empreses que produeixen en massa equips de polvorització ultrasònica per a bateries de perovskita. Tot el conjunt d'equips té una estructura senzilla i elegant i funcions completes.

◆ Rang de mida de partícula atomitzada (μm): 10-100

◆ Amplada de polvorització (mm): 40-120

◆ Cabal de polvorització (ml/min): 0,5-20

◆ Alçada de polvorització (mm): 50-150

◆ Viscositat del líquid (cps):

◆ Mida de partícula (μm):

◆ Pressió de desviació (Mpa):

◆ Rang de mida de partícula atomitzada (μm): 15-40

◆ Amplada de polvorització (mm): 2-20

◆ Flux de polvorització (ml/min): 0,5-10

◆ Alçada de polvorització (mm): 10-30

◆ Viscositat del líquid (cps):

◆ Mida de partícula (μm):

◆ Pressió de desviació (Mpa):

◆ Rang de mida de partícula atomitzada (μm): 30-80

◆ Amplada de polvorització (mm): 20-80

◆ Flux de polvorització (ml/min): 1-10/2-20/3-40

◆ Alçada de polvorització (mm): 30-150

◆ Viscositat del líquid (cps):

◆ Mida de partícula (μm):

◆ Pressió de desviació (Mpa):

◆ Rang de mida de partícula atomitzada (μm): 15-28

◆ Amplada de polvorització (mm): 50-100

◆ Flux de polvorització (ml/min): 0,5-12

◆ Alçada de polvorització (mm): 50-200

◆ Viscositat del líquid (cps):

◆ Mida de partícula (μm):

◆ Pressió de desviació (Mpa):

◆ Rang de mida de partícula atomitzada (μm): 10-60

◆ Amplada de polvorització (mm): 0,5-5

◆ Flux de polvorització (ml/min): 0,01-1

◆ Alçada de polvorització (mm): 10-20

◆ Viscositat del líquid (cps):

◆ Mida de partícula (μm):

◆ Pressió de desviació (Mpa):

◆ Rang de mida de partícula atomitzada (μm): 26-65

◆ Amplada de polvorització (mm): 3-5

◆ Flux de polvorització (ml/min): 0,5-10

◆ Alçada de polvorització (mm): 5-30

◆ Viscositat del líquid (cps):

◆ Mida de partícula (μm):

◆ Pressió de desviació (Mpa):

◆ Temperatura (℃): Temperatura ambient ~ 300

◆ Rang de mida de partícula atomitzada (μm): 26-65

◆ Amplada de polvorització (mm): 3-5

◆ Flux de polvorització (ml/min): 0,5-10

◆ Alçada de polvorització (mm): 5-30

◆ Viscositat del líquid (cps):

◆ Mida de partícula (μm):

◆ Pressió de desviació (Mpa):

◆ Temperatura (℃): Temperatura ambient ~ 300

◆ Rang de mida de partícula atomitzada (μm): 30-80

◆ Amplada de polvorització (mm): 3-15

◆ Flux de polvorització (ml/min): 0,3-5

◆ Alçada de polvorització (mm): 1-100

◆ Viscositat del líquid (cps):

◆ Mida de partícula (μm):

◆ Pressió de desviació (Mpa):/

◆ Tipus de xeringa aplicables: 0,5 μm-150 ml (dispersió ultrasònica de 25, 50, 100 ml)

◆ Rang de velocitat lineal: 1 μm/min-132 mm/min

◆ Rang d'empenta lineal: 8-20 kgf, ajustable en línia

◆ Precisió del control de desplaçament: Error ≤ ± 0,3%

◆ Distància de retorn: 0,01-10 mm

◆ Sortida d'estat: sortida de senyal de porta OC

◆ Tipus de xeringa aplicables: 0,5 μm-150 ml (dispersió ultrasònica de 25, 50, 100 ml)

◆ Rang de velocitat lineal: 1 μm/min-132 mm/min

◆ Rang d'empenta lineal: 8-20 kgf, ajustable en línia

◆ Precisió del control de desplaçament: Error ≤ ± 0,3%

◆ Distància de retorn: 0,01-10 mm

◆ Sortida d'estat: sortida de senyal de porta OC

◆ Tipus de xeringa aplicables: 50 μl-50 ml (dispersió ultrasònica de 25, 50 ml)

◆ Rang de velocitat lineal: 0,005 mm/s-30 mm/s

◆ Temps de funcionament per trajecte: 1,25 s-100 min

◆ Pressió màxima del circuit de líquid: 0,68 MPa

◆ Temperatura d'emmagatzematge: -20 ℃ - 60 ℃

◆ Temperatura de funcionament: 15 ℃-40 ℃

◆ Tipus de xeringa aplicables: 50 μl-50 ml (dispersió ultrasònica de 25, 50 ml)
◆ Rang de velocitat lineal: 0,005 mm/s-30 mm/s
◆ Temps de funcionament per trajecte: 1,25 s-100 min
◆ Pressió màxima del circuit de líquid: 0,68 MPa
◆ Temperatura d'emmagatzematge: -20 ℃ - 60 ℃
◆ Temperatura de funcionament: 15 ℃-40 ℃

◆ Tipus de xeringa aplicables: 0,1 μl-25 ml (dispersió ultrasònica de 25 ml)

◆ Rang de velocitat lineal: 0,005 mm/s-30 mm/s

◆ Pressió màxima del circuit de líquid: 0,68 MPa

◆ Sistema de control: pantalla tàctil + botons mecànics importats

◆ Temperatura de funcionament: 15 ℃-40 ℃

◆ Tipus de xeringa aplicables: 0,1 μl-25 ml (dispersió ultrasònica de 25 ml)
◆ Rang de velocitat lineal: 0,005 mm/s-30 mm/s
◆ Pressió màxima del circuit de líquid: 0,68 MPa
◆ Sistema de control: pantalla tàctil + botons mecànics importats
◆ Temperatura de funcionament: 15 ℃-40 ℃

◆ Envàs d'injector: 25 ml, 50 ml, 100 ml
◆ Freqüència: 40 kHz
◆ Potència: 100w
◆ Generador: Generador digital
◆ Temperatura de funcionament: 15 ℃-40 ℃

◆ Cub d'injector: 4L (o personalitzat)
◆ Freqüència: 20 kHz
◆ Potència: 1000w
◆ Generador: Generador digital
◆ Temperatura de funcionament: 15 ℃-40 ℃
◆ Aplicació: Indústria electrònica, equips mèdics, energia i nanomaterials, pel·lícules de vidre

◆ Freqüència: 20 kHz

◆ Potència màxima: 3000w

◆ Materials de l'emissor: aliatge de titani (es pot seleccionar material d'acer inoxidable per a alguns entorns especials)

◆ Tipus d'emissor: Tipus enfocat

◆ Temperatura: Temperatura ambient ~ 80 ℃

◆ Materials processables: grafè, olis essencials, cèl·lules, aliments, cosmètics, etc.

◆ Apte per a línies de producció industrial

◆ Freqüència: 20 kHz

◆ Potència: 10 kW

◆ Materials de l'emissor: aliatge de titani (es pot seleccionar material d'acer inoxidable per a alguns entorns especials)

◆ Tipus d'emissor: Tipus enfocat

◆ Temperatura: Temperatura ambient ~ 80 ℃

◆ Materials processables: grafè, olis essencials, cèl·lules, aliments, cosmètics, etc.

◆ Apte per simular processos de processament industrial

◆ Freqüència: 20 kHz

◆ Potència: 2000w

◆ Materials de l'emissor: aliatge de titani (es pot seleccionar material d'acer inoxidable per a alguns entorns especials)

◆ Tipus d'emissor: Tipus enfocat

◆ Temperatura: Temperatura ambient ~ 80 ℃ (es pot personalitzar el tipus d'alta temperatura)

◆ Materials processables: grafè, olis essencials, cèl·lules, aliments, cosmètics, etc.

◆ Apte per a ús industrial de nivell inicial

◆ Freqüència: 20 kHz

◆ Potència: 3000w

◆ Materials de l'emissor: aliatge de titani (es pot seleccionar material d'acer inoxidable per a alguns entorns especials)

◆ Tipus d'emissor: Tipus enfocat

◆ Temperatura: Temperatura ambient ~ 80 ℃

◆ Materials processables: grafè, olis essencials, cèl·lules, aliments, cosmètics, etc.

◆ Apte per a ús industrial de nivell inicial

◆ Freqüència: 20 kHz

◆ Potència: 1000-3000W * 2 grups treballant simultàniament (36KW)

◆ Materials de l'emissor: aliatge de titani (es pot seleccionar material d'acer inoxidable per a alguns entorns especials)

◆ Capacitat de processament: grups de 5L-10L*2 treballant simultàniament

◆ Amplitud de la superfície radiant (de pic a pic): 20-100 μm

◆ Temperatura: Temperatura ambient ~ 80 ℃

◆ Materials processables: grafè, olis essencials, cèl·lules, aliments, cosmètics, etc.

◆ Freqüència: 20 kHz, 40 kHz o personalitzada

◆ Potència màxima: 1200w

◆ Materials de l'emissor: aliatge de titani (es pot seleccionar material d'acer inoxidable per a alguns entorns especials)

◆ Tipus d'emissor: Tipus enfocat

◆ Temperatura: Temperatura ambient ~ 80 ℃

◆ Materials processables: grafè, olis essencials, cèl·lules, aliments, cosmètics, etc.

◆ Freqüència: 20 kHz, 25 kHz, 40 kHz o personalitzada

◆ Potència màxima: 2000w

◆ Materials de l'emissor: aliatge de titani (es pot seleccionar material d'acer inoxidable per a alguns entorns especials)

◆ Tipus d'emissor: Tipus enfocat

◆ Temperatura: Temperatura ambient ~ 60 ℃

◆ Materials processats: medicina tradicional xinesa, extractes de plantes d'oli essencial, teixits cel·lulars, etc.

◆ Freqüència: 20 kHz, 50 kHz, 60 kHz o personalitzada

◆ Potència màxima: 2000 W

◆ Temperatura: 200~400℃

◆ Font d'alimentació: 380 V; 50 Hz

◆ Material del disc atomitzador: acer ràpid o aliatge de titani

◆ Freqüència: 40 kHz, 50 kHz, 60 kHz o personalitzada

◆ Potència: 100-1200 W

◆ Temperatura: 200~400℃

◆ Font d'alimentació: 220 V; 50 Hz

◆ És especialment adequat per a unitats de recerca, experiments de processos i producció de precisió a petita escala en diversos lots.

◆ Freqüència: 20 kHz (es pot personalitzar una altra freqüència)

◆ Potència: 1000-2000w

◆ Temperatura: Temperatura ambient ~ 60 ℃

◆ Amplitud de treball: 3-20 μm

◆ Materials processats: estany, indi, plata, coure, níquel, filferro d'alumini, etc.

◆ Protecció del sistema: protecció contra altes temperatures

◆ Freqüència: 20 kHz (es pot personalitzar una altra freqüència)

◆ Potència màxima: 2000w

◆ Temperatura: 200~400 ℃

◆ Amplitud de treball: 3-20 μm

◆ Materials processats: estany, indi, plata, coure, níquel, filferro d'alumini, etc.

◆ Mètode de refrigeració: Refrigeració per aire

◆ Freqüència: 20 kHz

◆ Potència: 2000w

◆ Voltatge: 220V/50Hz o 110V/60Hz

◆ Carrera de soldadura: 75 mm

◆ Temps de soldadura: 0,1-9 s

◆ Materials de la banya: alumini o aliatge de titani

◆ Mode de treball: Mode de temps o Mode d'energia

◆ Freqüència: 35 kHz

◆ Potència: 800w

◆ Voltatge: 220V o 110V

◆ Amplitud: 18-28 μm

◆ Amplada de la roda: 11,5 mm

◆ Materials de la roda: titani o acer especial

◆ Freqüència: 35 kHz (es pot personalitzar una altra freqüència)

◆ Potència: 800w

◆ Voltatge: 220V/50Hz o 110V/60Hz

◆ Materials de la punta de la banya: aliatge de titani, aliatge d'alumini, acer especial

◆ Gruix de soldadura: 0,1-5 mm

◆ Temps de soldadura: 0,1-9 s

◆ Temperatura de la botzina: Temperatura ambient ~60 ℃

◆ Mode de treball: Intermitent